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FISCHERSCOPE XUV 773带有真空室的微型X射线荧光光谱仪

带有真空室的微型X射线荧光光谱仪​,用于无损材料分析。视频图像支持在可编程X / Y / Z平台上放置样品

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FISCHERSCOPE® X-RAY XUV® 773 

带有真空室的微型X射线荧光光谱仪,用于无损

材料分析。视频图像支持在可编程X / Y / Z平台上放置样品


FISCHERSCOPE X-RAY XUV仪器配有一个可抽真空的大型测量箱。其所装备的大面积硅漂移探测器能够探测低至1 keV的荧光辐射能量,从而能够有效地测量元素Na、Mg以及元素Zn、Cu、Ni的L辐射。大孔径准直器的使用大幅提高了信号计数率,使仪器可以达到很小的重复精度和很低的测量下限。XUV非常适合测量很薄的镀层和痕量分析。

        采用不同的准直器和基本滤片组合,能够保证每一次的测量都在*佳的条件下完成。在测量的同时,可以直观地查看测量点的影像。仪器测量空间宽大,样品放置便捷,配合可编程的XYZ轴工作台,既适合测量平面、大型板材类样品,也适合形状复杂的样品。并且使得连续测量分析镀层厚度或元素分析也变得直观而简单。仪器配有一个激光定位点作为辅助定位装置,进一步方便了样品的快速定位基于仪器的通用设计以及真空测量箱所带来的扩展的测量能力,使得FISCHERSCOPE X-RAY XUV不仅可用于研究和开发,也非常适合过程控制和实验室使用


特征
    • 带铍窗口的微聚焦X射线铑管,可选钨管和钼管。*高工作条件:50 kV, 50W
    • X射线探测器采用珀尔帖致冷的硅漂移探测器
    • 准直器:4个,可自动切换,从直径0.1mm到3mm
    • 基本滤片:6个,可自动切换
    • 可编程XYZ工作台
    • 摄像头用来查看基本射线轴向方向的测量位置。刻度线经过校准,显示实际测量点大小。
    • 可在真空,空气或者氦气的环境下工作


典型应用领域
    • 测量轻元素
    • 测量超薄镀层和痕量分析
    • 常规金属分析鉴定
    • 非破坏式宝石分析
    • 太阳能光伏产业


通用规格
设计用途
能量色散X射线荧光光谱仪(EDXRF)用于确定薄涂层,小结构,痕迹和合金。
元素范围
钠(11)到铀U(92)–同时*多24种元素
设计理念
台式单元,带电动开口圆柱形真空室;外部真空泵;可编程电动X / Y / Z样品台;高分辨率彩色摄像机,放大范围广
测量方向
向下
X射线源
X射线管
带铑靶的微焦点X射线管(可选用钨,钼或其他靶材)
高压
8 kV … 50 kV
孔径(准直器)
4倍可更改:Ø0.1毫米; Ø0.6毫米 Ø1毫米; Ø3 mm(其他按需提供)
X射线探测
X射线接收器
硅漂移探测
电气参数
电源要求
AC 115 V or AC 230 V 50 / 60 Hz
功率
max. 120 W (XUV 773 without evaluation PC and vacuum pump) 
保护等级:
IP40
尺寸规格
外部尺寸
宽×深×高[mm]:640 x 640 x 760 mm 
内部测量室尺寸
宽×深×高[mm]:400 x 390 
重量
ca. 120 kg 
环境要求
使用时温度
10° C – 40°C / 50°F – 104°F 
存储或运输时温度
0° C – 50°C / 32°F – 122°F 
空气相对湿度
≤ 95 %,无结露
工作台
设计
电动和快速可编程X / Y / Z样品台
行程
X-/ Y-/ Z-axis [mm]:100 x 100 x 100 
重复性X / Y / Z
≤ 0,01 mm (uni-directional) 
可用样品放置区
Width x depth [mm]: 135 x 135 
样品*大重量
≤ 1 kg 
样品*大高度
100 mm 



应用实例:

种类、来源和真实性,是评估宝石价值的本质特征;而宝石材质的分析结果则是影响判断的决定性因素。通常,宝石的主要成份是铝和硅的氧化物,还会伴随有镁和钠等元素。另外, Cr、Fe、Ga等微量元素也是很重要的。XUV可以分析所有必要元素的光谱图。在多个领域的应用中,非常薄的Al镀层、Si镀层、氧化铝镀层和氧化硅镀层正在变得原来越重要。在真空环境中镀层厚度的测量结果有显著的提高。使用XUV来测量这些镀层,重复精度仅几个纳米。

土壤标本、灰质样本、矿矿物

宝石:阵列 Al2O3, SiO2

宝石分析

晶片:Al/Si-晶片

宝石:痕量分析Cr, Fe, Ti, Ga,...

非破坏式宝石分析





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